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磁控溅射-钙钛矿制造设备-嘉兴大哲光能有限公司
嘉兴大哲光能有限公司
解决方案
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钙钛矿制造设备
磁控溅射
磁控溅射

• 尺寸:最大<1x2m，基片台大小可定制

• 真空极限:优于5.0x10-5Pa(手套箱环境)

         抽速:大气压~5x10-4Pa<25min(手套箱环境)

• 溅射靶:矩形靶枪，根据需求定制

• 电源:配置600w射频电源1台、2kw高性能直流脉冲电源1台

• 膜厚均匀性:膜厚均匀性高

• 溅射材料:ITO、IZ0、IWO、等

上一个：蒸镀设备(CVD) 下一个：手套箱（狭缝涂布机）
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